【中泰电子】半导体核心材料,看好国产光刻胶替代机遇!
光刻胶:高壁垒、高价值量的半导体核心材料
光刻胶是半导体生产的关键材料,帮助将掩膜版上的图形转移到衬底表面,其分辨率直接决定了特征尺寸的大小,其质量和性能直接影响制造产线的良率,高壁垒和高价值量是典型特征,高端的KrF光刻胶价格在200万元/吨以上。
大陆光刻胶市场规模增长迅速,美日垄断市场
据国际半导体产业协会(SEMI)统计,2021 年全球半导体光刻胶市场规模达 24.71 亿美元,同比增长 19.49%,其中中国大陆市场依旧保持着最快的增速,达到 4.93 亿美元,较上年同期增长 43.69%。与极高的增长速度相比,光刻胶的国产化率极低,日美企业占据约70%份额,尤其依赖日本进口。我国中高端胶如KrF光刻胶国产化率不及5%,ArF几乎空白,若此后国际形势再度产生变化,或将对国内半导体供应链安全造成较大的影响,中高端光刻胶国产替代迫在眉睫。
国产光刻胶相继取得突破,产能即将释放
近年来国内各大光刻胶厂商也已陆续取得突破,彤程新材KrF光刻胶持续放量,上海新工厂部分产线已试生产;华懋科技子公司徐州博康多款ArF光刻胶已通过客户验证,邳州工厂产能即将投放;晶瑞电材眉山光刻胶产线已通车,客户拓展顺利。另外,上海新阳、南大光电等企业也有望持续受益。
建议关注: 彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等
风险提示:国产替代不及预期、晶圆厂验证不及预期、研发进度不及预期。
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