导语：半导体设备薄膜龙头拓荆科技近期调整到配置窗口期，值得关注。公司订单增长稳步，产品覆盖薄膜沉积大赛道，市场规模不断扩张。龙头地位稳固，先发优势明显，未来行业格局将形成“二八开”。本文将详细分析公司的基本面和成长空间，为投资者提供投资建议。投资者可在拓荆科技中寻找投资机会，抓住龙头机会的回暖。
半导体设备——一个预期差不算大的板块，我们认为往往非基本因素股价调整，孕育新一波投资机会。目前受A股弱市情绪影响，部分设备龙头已经调整到重新重视配置窗口期，今日我们再次提示薄膜设备龙头【拓荆科技】，现价建议各位领导重点关注：
①从基本面看，公司估值已经具备性价比？2022年公司新接订单43.62亿元，在行业扩产下滑的不利局面下，2023年公司订单预计仍实现了稳步增长，我们预计同比增速仍有望超过20%。一方面，长存回归正常扩产，2024年行业招标扩产确定性向上；另一方面，公司作为薄膜沉积设备龙头，是PECVD、SACVD国内唯一供应商，ALD等持续突破，客户涵盖中芯国际、合肥长鑫、长江存储等头部晶圆厂，参考北方、中微等，预计公司新接订单有望实现快速增长，当前400亿出头的市值，24年对应订单我们预计也就5-6ps，已经调整出性价比。
②薄膜沉积是大赛的，公司成长空间大？薄膜是前道价值量TOP3的大赛道，占比25%，国内市场规模70亿美元+，从产品覆盖来看，拓荆科技主要产品PECVD、SACVD、ALD占薄膜沉积设备价值量60%，也在布局HDPCVD、UV Cure等设备，未来触及的市场规模不断扩张。看远期，以目前布局的产品品类，我们粗略测算中拓荆科技远期可以看到150+亿，25%净利率，回归合理PE估值（20-30倍），公司未来市值1000亿+。
③不必过分担心竞争格局，薄膜沉积龙一地位稳固？公司PECVD在逻辑芯片领域已基本实现28nm及以上制程全覆盖，公司SACVD已经实现12英寸40/28nm和8英寸90nm以上逻辑芯片产业化应用。招股书披露，多种14nm及10nm以下制程PECVD设备正在积极配合客户进行产业化验证，适用于19/17nm DRAM刻蚀调节层的SACVD设备也正在产业化验证中，预计现在的进展要更乐观。我们一直强调半导体设备门槛高，研发、验证周期长，验证成本高等，更没有类似光伏新技术变革带来的弯道超车，以上因素都会导致半导体设备先发优势明显，未来行业格局一定会形成“二八开”，龙头会占据大部分市场格局，被卷的一定是之前产品做的不行的，未验证通过的公司。
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