20230914【国海电新】苏大维格调研核心摘要

【国海电新】苏大维格调研核心摘要

设备
1）定位光栅尺：供应给上海微电子所的DUV芯片光刻机，是曝光时帮助定位对准的零部件，单台光刻机中光栅尺价值量百万级。给上微所是28nm制程，也可以用做14nm
2）直写光刻机：五六年前就开始往日韩卖，比如一些高校、科研机构；近些年也开始往国内卖。给华为海思供应三台直写光刻机

电镀铜
1）客户进展：国电投、通威都在合作，前几个月发了一台投影设备。和天合、晶科都在谈
2）价值量：图形化环节设备（包括曝光显影全套）定价会按照电镀铜整线1/3来定（比如整线9000万/GW，图形化环节就3000万/GW）认为投影曝光路线会比LDI便宜一半。提供掩膜版，几千块钱一个，一台设备需要一个掩模版
3）产速：单台设备目前是1半片/s即3600半片/h，四台双面7200半片/h，八台双面是14400片/h，后续可以再提升单片产速
4）线宽：目前交付的投影式是8μm，最窄可以50nm

防伪材料
开发下一代证卡防伪材料，作为供应耗材提供，目前在做身份证、纸币的中试
现在每年5-6千万，如果纸币技术量产是几十亿的空间

反光材料
受反光材料影响近年毛利率波动大。反光材料子公司16年收购后，业绩对赌到20年有商誉减值，22年接管后这块业务准备卖出有公告过

激光转印薄膜
可以配合帝尔的激光转印设备做辅材，近期进展不多，主要根据下游客户需求提供产品