半导体先进封装专题：枕戈待旦，蓄势待发！封装技术、晶圆级封装、2.5D/3D封装成发展趋势

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先复盘一下今天早盘半导体板块大涨，我们认为主要原因：1）AI链催化外溢，前期机器人等均出现一定反弹，而半导体相对滞后；2）近期半导体公司23年业绩快报捷报频出，24Q1预期仍较为乐观，且板块估值为历史底部；3）事件催化：近期美国政府驳回Micron窃取商业机密指控，裁定福建晋华无罪等。因此半导体板块出现触底反弹！

后续我们主要看好2条主线：1）订单确定性较强+估值较低的环节：拓荆科技、北方华创、中微公司、华海清科等；2）看好半导体先进封装结构性机会：芯源微、芯碁微装等。
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1、封测是半导体产业链重要一环：封装技术分为传统封装和先进封装，两种技术之间不存在明确的替代关系。
1）传统封装：具有性价比高、产品通用性强、使用成本低、应用领域广等优点；
2）先进封装：主要是采用键合互连并利用封装基板来实现的封装技术，应用先进的设计思路和先进的集成工艺，对芯片进行封装级重构，并且能有效提升系统高功能密度的封装，主要包括倒装芯片封装、晶圆级封装、2.5D封装、3D封装等。根据Yole预测，全球先进封装市场规模2026年或达482亿美元，2021-2026年的CAGR约8%，将为全球封测市场贡献主要增量。

2、先进封装四要素：RDL、TSV、Bump、Wafer
具备其中任意一个要素都可以称为先进封装；其中在先进封装的四要素中，RDL起着XY平面电气延伸的作用，TSV起着Z轴电气延伸的作用，Bump起着界面互联和应力缓冲的作用，Wafer则作为集成电路的载体以及RDL和TSV的介质和载体。

3、晶圆级封装：Fan-in & Fan-out & 技术延展
晶圆级封装是指晶圆切割前工艺，所有工艺都是在晶圆上进行加工，晶圆级封装五项基本工艺包括光刻（Photolithography）、溅射（Sputtering）、电镀（Electroplating）、光刻胶去胶（PR Stripping）和金属刻蚀（Metal Etching）。

4、2.5D/3D封装：
2.5D封装：集成密度超过2D但达不到3D，先进封装领域特指采用了中介层（interposer）集成方式，中介层目前多采用硅材料（成熟工艺和高密度互连特性）；高密度互联时，TSV几乎是不可缺少的，中介层TSV被称为2.5TSV。
3D封装：指芯片通过TSV直接进行高密度互连，芯片上直接生产的TSV被称为3DTSV。芯片相互靠得很近，延迟会更少，此外互连长度的缩短，能减少相关寄生效应，使器件以更高频率运行，从而转化为性能改进，并更大程度的降低成本。

相关标的：芯源微（涂胶显影湿法设备键合机），中微公司（刻蚀设备），拓荆科技（键合设备），芯碁微装（直写光刻），华海清科（CMP），新益昌（固晶机）等。
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